本发明涉及一种电路板及其制作方法，尤其涉及一种在电路板上制作细线路的方法。

　　现有技术中，在电路板上制作线路的方法分为干膜蚀刻法(Tenting，又称消减法)以及半加成法(Semi-additive Process，SAP)两种。所谓干膜蚀刻法即利用帐篷的方式制作线路遮蔽的方法，较精确的说法是指在电路板通孔上方利用干膜作为保护盖，用以防止蚀刻液将孔内铜蚀除的制作方式。近年来对于直接以光阻来保护铜面直接蚀刻而不作线路电镀的做法被普遍称为Tenting。所谓半加成法是指在绝缘基材表面上，用化学沉积金属，结合电镀蚀刻或者三者并用形成导电图形的加成法工艺。半加成法的工艺流程是：钻孔-催化处理和增粘处理-化学镀铜-成像(电镀抗蚀剂)-图形电镀铜(负相)-去除抗蚀剂-差分蚀刻。

　　请参阅图1，干膜蚀刻法因流程短、成本低而成为线路制作时的首选方法，但受其梯形断面与铜层厚度及均匀性的影响，35/35μm以下线路已难使用此方法制作。目前虽可搭配使用二流体进行蚀刻，可以下探到25/25um，但对铜层的厚度与均匀性仍然有较高要求。另外，一般细线路的制作，因蚀刻均匀性的调整(亦可能为铜厚变异造成)，往往容易过度蚀刻(Over Etch)而造成线细或断路(如A部所示)，同时无蚀刻(Non-Etch)又易造成微短路(Micro-short)(如B部所示)，这样很难于制作后再进行修补，造成良率低下。

　　鉴于以上问题，有必要提供一种利用干膜蚀刻法在电路板上制 作细线路时，可有效避免过度蚀刻或无蚀刻所产生的断路及微短路的电路板的线路制作方法以及利用该方法制造的电路板。

　　提供一第一铜层，在该第一铜层一表面进行半蚀刻出截面为梯形的多个突起，在该第一铜层形成有多个突起的一表面上压合介电层，对该第一铜层背离该介电层的另一表面进行研磨改变该多个突起的高度，以形成相互间隔设置且嵌埋于该介电层内的多个第一线路图案，该多个第一线路图案共同形成第一线路层；

　　该介电层的背离该第一线路层的一表面形成与该第一线路层相电性导通的双铜层结构电路板，将该双铜层蚀刻成相互间隔设置且截面为梯形的多个第二线路图案，该多个第二线路图案露出于该介电层表面外，且共同形成第二线路层；

　　该第一线路层的多个第一线路图案朝向该介电层内嵌埋延伸方向与该第二线路层的多个第二线路图案从该介电层表面凸出延伸方向相一致，从而该第二线路层的多个第二线路图案的侧壁倾斜方向与该第一线路层的多个第一线路图案的侧壁倾斜方向相一致。

　　一种电路板，其包括：一第一线路层、一第二线路层亚新体育、一介电层以及至少一导电柱，该第一线路层及该第二线路层分别设置于该介电层的相对两侧，该导电柱用于电性导通该第一线路层及该第二线路层，该第一线路层及该第二线路层均通过蚀刻形成，该第一线路层包括相互间隔设置且截面为梯形的多个第一线路图案，该多个第一线路图案分别嵌埋于该介电层内，该第二线路层包括相互间隔设置且截面为梯形的多个第二线路图案，该多个第二线路图案露出于该介电层表面外，该多个第一线路图案朝向该介电层内嵌埋延伸方向与该多个第二线路图案从该介电层表面凸出延伸方向相一致，从而该第二线路层的多个第二线路图案的侧壁倾斜方向与该第一线路层的多个第一线路图案的侧壁倾斜方向相一致。

　　与现有技术相比，本发明所提供的电路板的线路制作方法于电路板上制作细线路时，对传统的Tenting工艺的线路制作工序进行改 良，利用干膜蚀刻法蚀刻图案成梯形的特性，在第一铜层上蚀刻出由多个截面为梯形的线路图案构成的第一线路层后，在该第一线路层的上方压合介电层，之后对该第一线路层的底面进行研磨，经研磨抛光定义出埋线面的线宽及线距，且根据需要可弹性修正、调整线宽线距。因此，本发明的线路制作方法可有效避免过度蚀刻或无蚀刻所产生的断路及微短路。此外，利用本发明的制作方法而制造的电路板上的线路不易产生断路及微短路，因此具有较佳的功能，使用寿命较长。

　　亚新体育

　　图1是利用现有技术的电路板的线路制作方法所得到的线是本发明实施例所提供的电路板的线路制作方法的流程图。

　　图4A～图4C是本发明实施例的电路板的线路制作方法的第一线路层的制作过程的示意图。

　　图5A～图5C是本发明实施例的电路板的线路制作方法的第二线路层的制作过程的示意图。

　　图7是本发明实施例的电路板的线路制作方法对该第一线路层进行修线处理的放大示意图。

　　图8是本发明实施例的电路板的线路制作方法对该第一线路层及该第二线路层进行打磨、抛光后的示意图。

　　图9A～图9B是本发明实施例的电路板的线路制作方法对该第二线路层进行蚀刻处理的示意图。

　　图10是本发明实施例的电路板的线路制作方法对该第一线路层进行表面处理的示意图。

　　图11是本发明实施例的电路板的线路制作方法对该电路板的线路模组进行封装处理的示意图。

　　请参阅图2，图2是本发明实施例所提供的电路板的线路制作方法的流程图，本发明的电路板的线路制作方法具体包括以下工序：

　　工序1，请参阅图3，提供一载体10。该载体包括基板11、覆盖于该基板11的上表面的铜层12以及覆盖于该铜层12的上表面的镍层(Ni)13。该基板11为一厚度为0.5mm～1.0mm的钢板。该铜层12通过电镀法等方式形成于该基板11的上表面，其厚度为3μm～5μm。该镍层13通过电镀法等方式形成于该铜层12的上表面，其厚度为0.5μm～1.0μm。该镍层13作为后续制程的分层界面。

　　可以理解，本发明中的载体10所采用的基板11不限于不锈钢板，在保证基板平整度及光洁度的基础上，也可采用铝板或生铁等作为基板。

　　工序2，请参阅图4A～图4C，在载体10的镍层13的表面形成多个第一线。该第一铜层14通过电镀法等方法覆盖于该镍层13的上面，其厚度为20μm～30μm。

　　工序22，利用干膜蚀刻法在第一铜层14一表面上蚀刻出多个第一线。具体来说，在第一铜层14的上表面覆盖一第一干膜(dry film)100，之后进行曝光，将第一干膜100成形为未曝光部分100a和已曝光部分100b，接着对第一干膜100进行显影，图案化第一干膜100，接着利用蚀刻液蚀刻第一铜层14，使其形成多个截面为梯形的突起，最后去除第一干膜100。在本实施方式中，第一铜层14与第一干膜100的未曝光部分100a相对应的部分被蚀刻液蚀刻出指定的深度，从而使其他部分成形为多个横截面为梯形的第一线。该多个第一线为截面为梯形的突起，其构成电路板的第一线的雏形，且其底部相互连接导通。

　　工序3，请参阅图5A～图5C，在多个第一线的上方形成一与该多个第一线相电性导通的双铜层结构。工序3具体包括：

　　工序31，在该多个第一线，以使第一线的多个第一线。具体来说，向图5A所示的该多个第一线之间的间隙内及其上面填充介电层17，并于该介电层17的表面电镀形成该第二铜层18。该介电层17可为溶融状态的环氧树脂等的材料，其具有较高的介电常数。该第二铜层18通过化学镀铜法形成，构成一起氧化还原反应的晶种层。

　　工序32，对该第二铜层18进行半蚀刻(half etch)，之后通过激光打孔法在该介电层17内形成一连接孔(contact hole)20。具体来说，通过半蚀刻，该第二铜层18的厚度减为一半。通过激光打孔法亚新体育，由半蚀刻后的第二铜层18的上表面至其中一个第二线路图案(本实施例中选择最大的第二线路图案)的上表面之间形成一倒梯形的凹部，该倒梯形的凹部即为该连接孔20。

　　工序33，利用通孔电镀法(Plating Through Hole，PTH)在该连接孔20内形成一导电柱24，同时在该第二铜层18的上面覆盖第三铜层25，从而形成上述的双铜层结构。

　　具体工艺为：通过电镀法，在半蚀刻后的该第二铜层18的上面覆盖一层厚度约为20μm～30μm的第三铜层25(又称电镀铜层)，并使铜填充至该连接孔20内，从而形成该导电柱24及该双铜层结构。该半蚀刻后的该第二铜层18与该第三铜层25构成电路板的第二线的底面与该最大的第二线路图案的上表面，从而该第三铜层25与该多个第一线相互电性导通。

　　可以理解，本发明的导电柱24可以起到导通连接第一线与第二线的作用。本实施例中，仅形成了一个导电柱24，但导电柱24的数量没有特别的限定，可以根据需要设置多个。

　　工序4，请参阅图6，去除该载体10。具体来说，通过手动分板机或自动分板机将载体10的镍层13与该多个第一线的底面相互分离，从而去除该载体10。

　　工序5，请一并参阅图7及图8，对该多个第一线的一表面进行研磨、抛光以形成第一线进行研磨、抛光，改变其厚度。本实施例的具体做法为：从多个第一线的底面向内研磨，通过对该多个第一线的位于打磨线L以下的部分进行打磨，从而减小该多个第一线的高度，改变由该多个第一线构成的线中的α所示)以及各线中的β所示)，从而形成第一线进行打磨抛光，将该第三铜层25的厚度减小为约10μm～25μm。

　　可以理解，根据需要，可以任意改变该打磨线L的位置，从而可以打磨出具有不同线路形态的第一线。

　　可以理解，第三铜层25的厚度也可于电镀时被形成为指定的厚度，而无需进行后续的打磨。

　　工序6，请参阅图9A及图9B，在第一线的外表面分别覆盖一第二干膜200，之后进行曝光、显影、蚀刻、去膜，将由第二铜层18(晶种层)和第三铜层25构成的双铜层结构蚀刻为宽度不一且间隔设置的多个第二线路图案，从而形成第二线。之后，剥离该第一线及该第二线，形成一电路板的线。此时，该线以及该第二线共同构成。具体来说，对贴覆于第一线进行全曝光，之后通过显影去除掉贴覆于第一线进行部分曝光，即不蚀刻的线路不曝光，通过显影后，贴覆于第三铜层25的第二干膜200被形成宽度不一且相互间隔设置的多个第二线路图案。更具体地，蚀刻时，与图案化后的第二干膜200相层合的双铜层结构不被蚀刻，而未被图案化后的第二干膜200覆盖的双铜层结构被蚀刻掉，从而形成了第二线。该多个第二线路图案的梯形截面的朝向与该第一线的多个第一线的梯形截面的朝向相同。第二线表面外。第二线的多个第二线路图案的侧壁倾斜方向与第一线的多个第一线的侧壁倾斜方向相一致。

　　工序7，请参阅图10，在该电路板的线的第一线及第二线的部分表面分别涂布阻焊膜26(solder mask)，之后进行曝光、显影，蚀刻掉与该第一线的部分线，从而形成多个防焊开口。从而，位于该第一线上具有多个防焊开口，该多个防焊开口与该第一线的部分第一线的底面一一对应设置；位于该第二线覆盖该第二线的部分表面并且填充于该多个第二线路图案之间的间隙内。

　　工序8，对第一线露出的铜面进行表面处理。具体做法为：在该第一线露出的多个第一线的铜面分别涂布有机保焊剂(Organic Solderability Preservatives，OSP)，同时，在该第二线露出的铜面涂布有机保焊剂。该有机保焊剂用于防止铜面被氧化。

　　工序9，请参阅图11，将电路板的线翻转，使第一线位于上方，使第二线位于下方，之后对该线进行封装处理。

　　具体地，首先，提供一底面设置有多个焊锡球的芯片27，将该多个焊锡球分别对应该第一线的防焊开口设置，并将该多个焊锡球分别焊接于该第一线的多个第一线与该第一线相互电性导通。其次，在该第一线。此时，该模塑化合物28包覆该芯片27于其内，该第一线的各第一线中。最后，在该第二线露出的铜层的表面焊接球垫(图未示)。此时，该球垫(ball pad)区域之线的表面。

　　相较于现有技术，采用本发明的电路板的线路制作方法在电路板上制作线路时，可以对传统的Tenting工艺的线路制作工序进行改良，利用干膜蚀刻法蚀刻图案成梯形的特性，在第一铜层14上蚀刻出由多个第一线构成的第一线后，在该第一线，之后对该第一线的底面进行研磨， 经研磨抛光定义出埋线面的线宽及线距，且根据需要可弹性修正、调整线宽线距。因此，本发明的线路制作方法可有效避免过度蚀刻或无蚀刻所产生的断路及微短路。

　　本发明还提供一种采用上述的线路制作方法制造的电路板40。如图11所示，本发明的电路板40包括一介电层17、第一线。

　　具体来说，该第一线和该第二线的内部，并且用于电性导通该第一线分别部分地覆盖于该第一线和该第二线的外表面。其中，位于该第一线上具有多个防焊开口，该多个防焊开口与该第一线的部分第一线的底面一一对应设置；位于该第二线覆盖该第二线的部分表面并且填充于该多个第二线路图案之间的间隙内。该芯片27通过多个焊锡球焊接于该第一线的多个第一线的底面，从而与该第一线相互电性导通。该多个焊锡球设置于该芯片27的底面，并且分别对应该第一线的多个防焊开口设置。该模塑化合物28形成于该第一线的外周。即，该模塑化合物28将该芯片27包覆于其内。

　　进一步地，该第一线与该第二线均通过干膜蚀刻法形成。其中，该第一线被蚀刻为多个相互间隔设置的第一线中。该第二线被蚀刻为截面亦为梯形的多个第二线路图案；该多个第二线的表面，且部分自该阻焊膜26露出以焊接球垫。该第一线的线路的梯形截面的朝向与该第二线的线路的梯形截面的朝向相同。

　　此外，第一线的各梯形线路具有蚀刻面与研磨面，且仅由电镀铜构成。然而，该第二线的各梯形线路由化镀铜(晶种层)以及电镀铜构成。

　　相较于现有技术，本发明电路板40的第一线及第二线经过打磨、抛光而被定义出适当的线宽、线距及厚度，因此上下线路层的线路不易产生断路及微短路，因此具有较佳的性能，使用寿命较长。

　　可以理解的是，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术构思做出其它各种相应的改变与变形，而所有这些改变与变形都应属于本发明权利要求的保护范围。